大奖国际

    HJT异质结高效电池制造整体解决方案
    该异质结高效电池制造整体解决方案由大奖国际自主研制、实现整线设备国产化，其完整覆盖了异质结电池生产的四道工艺，通过大片化、薄片化、半片化制程，结合创新双面微晶工艺路线，集成整线 MES 智能系统，进一步提升了太阳能电池的转换效率、 良率、产能，同时降低了生产成本。
    工序流程
    • 01
      清洗制绒
    • 02
      硅基薄膜沉积(PECVD)
    • 03
      透明导电薄膜沉积（PVD）
    • 04
      丝网印刷
    方案优势
    • 清洗制绒设备
      兼备两种预清洗工艺：Precln#1(O₃) → SDE → Precln#2(H₂O₂)
    • PECVD设备
      采用大产能、多腔体、准动态PECVD真空镀膜技术
    • PVD设备
      连续完成正背面TCO镀膜，产能高、 8个工艺单元(PU)提升了TCO镀膜工艺灵活度，无需行车，镀膜利用率高达80%
    • 丝网印刷设备
      平铺式固化，集成光注入
    • 自动化
      硅片接触最少，环境控制，集成在线检测
    • 强大的MES中控系统
      可进行数据采集、产线监测、产线管控、统计分析，实现量产片级跟踪，追溯每片电池的生产过程
    工序一：清洗制绒
    +
    清洗制绒设备 HJ-TEX-182/210
    用酸碱药液将硅片表面刻蚀成金字塔纹理结构，再进行清洗、烘干。
    设备参数
    设备优势
    • 兼容大尺寸硅片、薄片、半片，产能大且充分客制化
    • 工艺可控度高（定排定补）
    • 机台内环境控制严格
      （酸碱隔离、FFU、除静电等)
    • 数据采集完整
      （lot log、ID追踪、记录曲线等）
    工艺流程
    补充说明
    可提供配套返工清洗机、链式前清洗机
    工序二：硅基薄膜沉积（PECVD）
    +
    PECVD镀膜设备 Maxwell MV-LH06
    一套在线准动态PECVD镀膜设备，在硅片正背面沉积本征和掺杂非晶硅膜/微晶硅膜
    设备参数
    设备优势
    • Inline多腔体准动态PECVD镀膜技术
    • 分层高品质非晶硅钝化镀膜技术
    • PECVD多层布气Showerhead放电阴极结构设计
    • 大尺寸、轻载荷、低热膨胀系数、高平面度的复合载板设计
    • Inline耐腐蚀磁流体真空传送大尺寸载板
    • RF快速启辉设置及辉光实时监控
    工艺流程
    工序三：透明导电薄膜沉积（PVD）
    +
    PVD镀膜设备 Maxwell P6
    一套卧式在线磁控溅射连续镀膜设备，可同时进行双面镀膜。
    设备参数
    设备优势
    • 大产能(G12，14400半片/小时，单台设备年产能约600MW）
    • HJT高效电池PVD镀膜专用大尺寸、轻载荷、低热膨胀系数、高平面度的复合结构设计载板
    • HJT高效电池大产能低碎片率的PVD腔体结构设计
    • 强磁低温高溅射率的PVD阴极结构设计
    • 快速均匀的加热单元设计
    • 低薄膜不均匀性的PVD阴极腔体设计
    • 在线PVD高速快节拍的高品质TCO薄膜镀膜技术
    工艺流程
    工序四：丝网印刷
    +
    异质结高效电池丝网印刷设备 MW-XDL-DP（HJT）
    该套设备使用丝网印刷的方式在电池正背面印刷银浆，形成金属电极，并进行测试、固化光衰。
    设备参数
    设备优势
    • 兼容MES、UPS和RFID功能
    • 高精度、大产量半片机台
    • 整线配置无人自动化
    • 整线大奖国际自制，包括检测设备
    工艺流程